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聚焦光束反射測(cè)量?jī)x

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM和顆粒視頻顯微鏡PVM為工藝過(guò)程中進(jìn)行顆粒表征分析的技術(shù)。通過(guò)從**API結(jié)晶到*終溶解與崩解測(cè)定中對(duì)性能的優(yōu)化，為您帶來(lái)直接的效益。他們舉報(bào)敏感的測(cè)量、可靠的設(shè)計(jì)、和在完整工藝過(guò)程濃度下無(wú)需采樣抽取或稀釋就可監(jiān)測(cè)顆粒系統(tǒng)的功能。聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM實(shí)時(shí)跟蹤工藝過(guò)程中顆粒、液滴及團(tuán)粒變化的速度與程度。而無(wú)需進(jìn)行離線采樣處理分析。

詳細(xì)介紹

山東負(fù)責(zé)人：，QQ：

探頭式超聲顆粒粒度分布測(cè)量?jī)xNanoSonic不同于聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM，采用超聲檢測(cè)，測(cè)試的是真實(shí)的粒徑大小，非弦長(zhǎng)計(jì)算！檢測(cè)范圍達(dá)到納米級(jí)別1nm-3000um.
防爆探頭式在線的晶體顆粒粒徑大小，粒徑分布測(cè)量?jī)x用于反應(yīng)釜里面的樣品在線測(cè)試檢測(cè)也可用于工業(yè)使用!

聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM和在線顆粒度顆粒錄影顯微鏡技術(shù)PVM為工藝過(guò)程中進(jìn)行顆粒表征分析的技術(shù)。通過(guò)從**API結(jié)晶到*終溶解與崩解測(cè)定中對(duì)性能的優(yōu)化，為您帶來(lái)直接的效益。他們舉報(bào)敏感的測(cè)量、可靠的設(shè)計(jì)、和在完整工藝過(guò)程濃度下無(wú)需采樣抽取或稀釋就可監(jiān)測(cè)顆粒系統(tǒng)的功能。聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM實(shí)時(shí)跟蹤工藝過(guò)程中顆粒、液滴及團(tuán)粒變化的速度與程度。而無(wú)需進(jìn)行離線采樣處理分析。

聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM測(cè)量對(duì)粒徑、形狀和粒數(shù)變化敏感的顆粒系統(tǒng)的指紋式分布。實(shí)時(shí)測(cè)量跟蹤工藝過(guò)程中自然存在的顆粒和顆粒結(jié)構(gòu)的變化速度和變化程度，避免離線采樣。

在結(jié)晶過(guò)程中，典型目標(biāo)是*大現(xiàn)代提高產(chǎn)量，同時(shí)提供過(guò)濾速度并避免下游瓶頸，聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM技術(shù)通過(guò)展示哪項(xiàng)工藝條件生產(chǎn)小顆粒，哪項(xiàng)工藝條件生產(chǎn)大顆粒，提供對(duì)工藝狀況的及時(shí)了解。

防爆探頭式超聲粒度分布測(cè)量?jī)x，它可以對(duì)數(shù)1納米到3000微米以下的懸浮液中的顆粒粒度進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量樣品的濃度從0.01VOL%到50VOL%,而無(wú)需任何稀釋和其他處理。他適用于化工，制藥，合成和食品等許多行業(yè)。

技術(shù)指標(biāo)：

測(cè)量范圍：1nm-3000um

測(cè)量方式：在線/離線測(cè)量懸浮液顆粒

測(cè)量濃度：≤50% vol/wol

重復(fù)性誤差：≤+1%（標(biāo)準(zhǔn)粒子D50偏差）

準(zhǔn)確性誤差：≤+1%（標(biāo)準(zhǔn)粒子D50偏差）

超聲頻率：30MHZ和50MH兩種

性能特征

NanoSonic 探頭式超聲顆粒粒度分布測(cè)量?jī)x，具有多種探頭設(shè)計(jì)。其中，反射式探頭具有小巧，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)；透射式探頭具有信號(hào)識(shí)別強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。此外，還提供流動(dòng)樣品槽的設(shè)計(jì)，僅增加8cm不到的流程。

NanoSonic 探頭式超聲顆粒粒度分布測(cè)量?jī)x的探管長(zhǎng)度5-40CM，直徑＜10MM，可根據(jù)客戶需要進(jìn)行設(shè)計(jì)。

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