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上海艾茵精密儀器科技有限公司


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賽默飛 ARL 4460金屬分析儀火花直讀光譜儀

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產品簡介

耐久可靠的結構設計和制造工藝,確保儀器在種惡劣環(huán)境下都具有的分析性能。

詳細介紹

詳細介紹
● 穩(wěn)定,可靠的硬件
  ● 工廠校正曲線
  ● 光譜制造技術
  ● 優(yōu)秀的分析軟件
  ● 分析準確度更高,分析速度更快
  ● 分析痕量元素和氣體元素具有新的突破
  ● 分析范圍廣泛:適于分析鋼鐵,鋁,銅,鎂,錫,鉛,鋅,貴金屬等金屬材料
  ● 對操作人員無特殊要求

  技術規(guī)格
  光普室設計: 一米焦距,帕邢龍格裝置,真空型,恒溫控制(38±0.10C),特殊鑄鐵材料制造,可設置60條通道
  試樣臺: 充氬樣品臺內置自循環(huán)水冷系統(tǒng)
  光柵: 根據分析任務,儀器配置以下三種光柵中的一種
  1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
  分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定
  狹縫寬度: 入射狹縫:20um 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
  光電倍增管: 直經Φ28mm,10級側窗管,光學玻璃或人造石英窗
  光源: 電流控制光源(CCS)
  光譜儀控制: 利用CMOS技術的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡每條通道均配置數模(A/D)轉換器和衰減器分為41檔測量電子部分的動態(tài)范圍與測量時間成正比,一般為2×106計數/秒
  12位可編程衰減器
  時間分辨光譜(TRS)
  環(huán)境要求:室溫:16~300C,更大允許溫差為50C/小時相對濕度20~80%  
  電力要求:電壓230V(+10%-15%),保護性接地的單相電源
  (電壓波動超過±10%時需用5KVA穩(wěn)壓器)。電流12A,頻率50或60Hz;功率2.5KVA接地電阻1Ω
  歐洲標準:89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁
  氬氣要求: 純度99.995%,更大含量5ppm(分析高Si樣品時,更大含量為2ppm)
  流量3.5升/分(分析時),0.35升/分(待機時)  
  幾何尺寸: 長1385(不計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm
  長1690(計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm 
  系統(tǒng)重理: 約540公斤  
  輔助設備: 氬氣凈化器 瓶裝氬氣配氣系統(tǒng) 穩(wěn)壓器 制樣機


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