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UV光解廢氣處理設(shè)備

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更新時(shí)間:2019-10-14 11:56:15瀏覽次數(shù):121

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UV光解廢氣處理設(shè)備能夠顯著治理的污染有:VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵,也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程,不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣,不會(huì)導(dǎo)致二次污染。

詳細(xì)介紹

UV光解廢氣處理設(shè)備廢氣經(jīng)阻火器過濾后,通過主進(jìn)閥、旁通閥的同步反向切換調(diào)節(jié)進(jìn)入熱交換器,熱交換器的熱氣升高一定溫度后進(jìn)入預(yù)熱室、經(jīng)過預(yù)熱室的加熱使廢氣升溫到催化起燃溫度(250度)然后進(jìn)入催化反應(yīng)床,在催化劑的活性作用下,有機(jī)廢氣進(jìn)行氧化反應(yīng)生成無害的水和二氧化碳,并放出一定的熱量。反應(yīng)后的高溫氣體再次進(jìn)入熱交換器,經(jīng)換熱后,后以較低的溫度經(jīng)引風(fēng)機(jī)排入大氣。催化燃燒是借助催化劑在低溫下(200-400度)實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)物的*氧化,因此,操作簡(jiǎn)單、安全、凈化效率高,在有機(jī)廢氣特別是回收價(jià)值大的有機(jī)廢氣凈化等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

UV光解廢氣處理設(shè)備

固體表面吸附了吸附質(zhì)后,一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離,此現(xiàn)附。而當(dāng)吸附進(jìn)行一段時(shí)間后,由于表面吸附質(zhì)的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時(shí)需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附,以協(xié)的吸附能力,這個(gè)過程稱為吸附劑的再生。因此在實(shí)際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程,達(dá)到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。

燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理。

等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達(dá)104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

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