高純水設(shè)備電子行業(yè)超純水設(shè)備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、線路板等工藝所需的純水和高純水設(shè)備.在嚴(yán)格執(zhí)行ISO-9001質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)的前提下,采用世界上*的反滲透膜元件.壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設(shè)備及后處理設(shè)備,使產(chǎn)品出水符合各類電子行業(yè)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的超純水.控制系統(tǒng)選用PLC或計(jì)算機(jī)DCS程序控制,可實(shí)現(xiàn)自動起停、加藥及沖洗,自動監(jiān)測各種運(yùn)行參數(shù),并可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行參數(shù)的儲存及打印 廣泛適用于： 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學(xué)試劑 光導(dǎo)纖維、光盤。

    一、應(yīng)用范圍概述：電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水  液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液 晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片 硅片純水 光伏硅材料DI超純水設(shè)備-硅圓生長/切片清洗高純水 硅材料單晶硅DI

    二、典型工藝流程

       預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

        預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）

       預(yù)處理－一級反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (新工藝)    

       預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

       處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

    三、達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)：

       純化水標(biāo)準(zhǔn)，注射水標(biāo)準(zhǔn) 顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)（經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)）、集成電路用純水水質(zhì)、國家電子級純水標(biāo)準(zhǔn)、美國SEMI標(biāo)準(zhǔn)

    四、設(shè)備特點(diǎn)

       為滿足用戶需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，延長設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國家自來水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時(shí)在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。