亚洲成在人网站av天堂-日日噜噜夜夜狠狠久久无码区-国产高清成人免费视频在线观看-老司机在线精品视频播放

您現(xiàn)在的位置:化工機械設(shè)備網(wǎng)>技術(shù)首頁>應(yīng)用案例

伯東貿(mào)易(深圳)有限公司

企業(yè)直播推薦

更多>

產(chǎn)品推薦

更多>

上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng)

2023
09-18

11:04:53

分享:
182
來源:伯東貿(mào)易(深圳)有限公司

上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng)
光的干涉在薄膜光學(xué)中應(yīng)用廣泛. 光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學(xué)鍍膜是光學(xué)器件上的單個或多個材料沉積薄層, 實現(xiàn)多樣功能, 典型應(yīng)用例如在鏡片鍍膜中, 為了消除光學(xué)零件表面的反射損失, 提高成像質(zhì)量, 涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜, 稱為增透膜或減反射膜. 薄膜沉積在新型特殊性能材料的開發(fā)和研究中起到重要作用.

光學(xué)鍍膜是如何工作的?
待鍍膜工件裝入鍍膜室, 其內(nèi)將執(zhí)行噴濺工藝流程. 通常是兩個離子源, 一個濺射沉積源, 一個預(yù)清潔和輔助沉積源. 離子源在真空環(huán)境中產(chǎn)生離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 從而將薄膜加鍍到工件上. 此處所需的典型真空壓力一般小于 1x10-4 hPa. 清潔無碳真空環(huán)境和高穩(wěn)定的離子束流是實現(xiàn)精確的高質(zhì)量的薄膜關(guān)鍵.
光學(xué)鍍膜機中的離子源和真空系統(tǒng)


光學(xué)鍍膜中離子源作用
通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好,  膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
射頻離子源


上海伯東 KRi 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

型號

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 陽極

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

離子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

22 cm Φ

38 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射


流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直徑

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000

 

光學(xué)鍍膜中真空系統(tǒng)
不論是蒸發(fā)鍍膜還是濺射鍍膜, 上海伯東提供滿足各種鍍膜工藝的德國 Pfeiffer 真空泵, 比如分子泵, 旋片泵, 螺桿泵及整套泵站, 同時提供用于真空測量的真空規(guī)和用于鍍膜設(shè)備腔體密封性泄露檢測的氦質(zhì)譜檢漏儀, 以保證鍍膜工藝穩(wěn)定性.

推薦大抽速分子泵參數(shù)

光學(xué)鍍膜機分子泵

型號

HiPace 1200

HiPace 1500

HiPace 1800

HiPace 2300

進氣口

DN 200 ISO-K
DN 200 ISO-F
DN 200 CF-F
 

DN 250 ISO-K
DN 250 ISO-F
DN 250 CF-F

DN 200 ISO-K
DN 200 ISO-F
DN 200 CF-F
 

DN 250 ISO-K
DN 250 ISO-F
DN 250 CF-F

氮氣抽速 l/s

1250

1400

1450

1900

極限真空度 hPa

< 1X10-7

< 1X10-7

< 1X10-7

< 1X10-7

電壓 V AC

100-120
200-240

100-120
200-240

100-120
200-240

100-120
200-240

氮氣壓縮比

> 1X108

> 1X108

> 1X108

> 1X108

轉(zhuǎn)速 RPM

37800

37800

31500

31500

預(yù)抽真空 hPa

2

2

1.8

1.8


若您需要進一步的了解光學(xué)鍍膜機中的離子源和真空系統(tǒng), 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅小姐 


全年征稿/資訊合作 聯(lián)系郵箱:137230772@qq.com
版權(quán)與免責(zé)聲明

1、凡本網(wǎng)注明"來源:化工機械設(shè)備網(wǎng)"的所有作品,版權(quán)均屬于化工機械設(shè)備網(wǎng),轉(zhuǎn)載請必須注明化工機械設(shè)備網(wǎng),http://ecoswey.cn/。違反者本網(wǎng)將追究相關(guān)法律責(zé)任。

2、企業(yè)發(fā)布的公司新聞、技術(shù)文章、資料下載等內(nèi)容,如涉及侵權(quán)、違規(guī)遭投訴的,一律由發(fā)布企業(yè)自行承擔(dān)責(zé)任,本網(wǎng)有權(quán)刪除內(nèi)容并追溯責(zé)任。

3、本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其它來源的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點或證實其內(nèi)容的真實性,不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品來源,并自負版權(quán)等法律責(zé)任。

4、如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。

QQ聯(lián)系

咨詢中心
客服幫您輕松解決~

聯(lián)系電話

參展咨詢0571-81020275會議咨詢0571-81020275

建議反饋

返回頂部