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詳細(xì)摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...

詳細(xì)摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...

詳細(xì)摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...

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詳細(xì)摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...

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詳細(xì)摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...

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詳細(xì)摘要： 蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶...

詳細(xì)摘要： 某傳感器制造商為了制備出具有高結(jié)晶度、大比表面積、排列規(guī)則的納米結(jié)構(gòu) WO3 薄膜, 經(jīng)過(guò)對(duì)比選擇, 采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380輔助磁控濺射...

詳細(xì)摘要： 純 Ti 薄膜具有優(yōu)異的力學(xué)性能、熱穩(wěn)定性、生物相容性和良好的抗摩擦磨損性, 被廣泛應(yīng)用于航空航天、科研、光學(xué)和微電子器件等領(lǐng)域, 因此具有重要的研究?jī)r(jià)值.

詳細(xì)摘要： MoN薄膜是一種具有潛在應(yīng)用價(jià)值的薄膜材料, 但對(duì)于其結(jié)構(gòu)和性能的研究還較少. 因此，廣州某研究機(jī)構(gòu)采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 在 304 ...

詳細(xì)摘要： 某 OEM 廠商為了提高鍍膜機(jī)鍍膜的品質(zhì), 其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾...

詳細(xì)摘要： 鈦金屬具有許多優(yōu)異的性能, 例如低密度/ 高熔點(diǎn)/ 耐腐蝕/ 無(wú)磁性和硅基襯底結(jié)合力好/ 具有形狀記憶和吸氫特性等, 因此對(duì)于磁控濺射沉積鈦薄膜的研究有很多.

詳細(xì)摘要： 某半導(dǎo)體廠商為了提高紅外器件 ZnS 薄膜厚度均勻性, 采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380輔助磁控濺射沉積設(shè)備鍍制紅外器件 ZnS 薄膜, 并采用動(dòng)...

詳細(xì)摘要： 河北某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在研究 IGZO 薄膜的特性試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射沉積半導(dǎo)體 IGZO 薄膜.

詳細(xì)摘要： 沈陽(yáng)某大學(xué)課題組采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 射頻磁控濺射沉積方法制備了不同成分的 ZnNi 合金薄膜, 并研究了真空熱處理對(duì)其成分及表...

詳細(xì)摘要： 某科研機(jī)構(gòu)在 IFBA 芯塊 ZrB2 涂層研究中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380輔助鍍膜設(shè)備濺射沉積 ZrB2 涂層.

詳細(xì)摘要： 上海某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 , 通入氬氣和氮?dú)? 在流量比分別為 25/10、25/20、25/25、25/30 ((mL...