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日立高新掃描探針顯微鏡控制器標(biāo)準(zhǔn)配備改良過(guò)的測(cè)量參數(shù)自動(dòng)調(diào)整功能,以及簡(jiǎn)單明了的圖形用戶界面。因此,即使是剛剛接觸SPM的人,或者測(cè)量某種全新的樣品時(shí),也能取得...
日立高新離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量,并制備廣域橫截面樣品。 離子研磨系統(tǒng)使用通過(guò)在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來(lái)拋光樣品的表面。樣品預(yù)...
日立高新電鏡制樣設(shè)備磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極,能夠zui大限度地減輕對(duì)樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000)具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!HITACHI Io...
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