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曝光顯影設(shè)備 SUSS MA/BA6

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地

更新時(shí)間:2023-02-24 17:21:41瀏覽次數(shù):104次

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TheSUSSMA/BA6SUSSMA/BA6掩模對(duì)準(zhǔn)器被廣泛認(rèn)為是半導(dǎo)體微米研究和微系統(tǒng)生產(chǎn)的基準(zhǔn)

The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模對(duì)準(zhǔn)器被廣泛認(rèn)為是半導(dǎo)體微米研究和微系統(tǒng)生產(chǎn)的基準(zhǔn)。憑借其創(chuàng)新設(shè)計(jì),該平臺(tái)可滿足客戶對(duì)精度、靈活性和低成本的需求。 在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中,在 MA/BA6上設(shè)計(jì)的工藝很容易轉(zhuǎn)移到自動(dòng) SUSS 掩模對(duì)準(zhǔn)器上進(jìn)行批量生產(chǎn)。

主要特色:

+頂面/底面/紅外線對(duì)準(zhǔn)

+定制照明可減少衍射曝光光學(xué)

+手動(dòng)或自動(dòng)臺(tái)

+從 2mm到150mm 的晶圓或方形加工

+處理易碎、翹曲或不平整的晶片和碎 片

+頂部小至幾毫米的碎片通過底邊對(duì)齊

+高精度鍵合對(duì)準(zhǔn)

+用于全晶圓納米范圍的壓印光刻



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