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當前位置:青島佳鼎分析儀器有限公司>>光刻機>> 二手Nikon ArF浸入式掃描 光刻機NSR-S631E
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更新時間:2023-02-26 14:48:34瀏覽次數(shù):267次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工機械設(shè)備網(wǎng)二手現(xiàn)貨ASML ARF光刻機 XT:1700Fi
二手現(xiàn)貨Nikon ARF光刻機NSR-S220D
二手尼康Nikon 14年產(chǎn) ARF浸入式光刻機 NSR-S630D
尼康公司(東京港區(qū)總裁 Kazuo Ushida)發(fā)布了一代尼康 ArF 浸入式掃描儀 NSR-S631E。該光刻系統(tǒng)專為大批量半導體制造中的 7 納米節(jié)點工藝而開發(fā)。它支持多重圖案* ,并具有經(jīng)過驗證的Streamlign平臺(也用于的 NSR-S630D)的高精度和出色的生產(chǎn)力。NSR-S631E 可滿足下一代客戶的制造要求,進一步提高覆蓋和產(chǎn)量,這在多重圖案化工藝中至關(guān)重要。
NSR-S631E通過使用新型投影鏡頭以及改進的對準系統(tǒng)標記檢測和測量,提供 2.3 nm 或以下的混合匹配覆蓋 (MMO * )。S631E 還可以通過每小時高達 270(96 次)晶圓的生產(chǎn)能力限度地提高晶圓廠的生產(chǎn)力。
結(jié)合用于晶圓載物臺位置測量的編碼器和干涉儀的混合系統(tǒng),分劃板載物臺位置使用 2D 編碼器進行測量。這使得每個平臺的位置測量不受空氣波動的影響,從而提高了疊加精度。
通過將現(xiàn)場圖像對準 (FIA) 顯微鏡的數(shù)量增加到五個(五眼 FIA)*,可以在更短的時間內(nèi)執(zhí)行對準測量。五眼 FIA 可將吞吐量損失降至,即使必須測量多個點(幾乎等于全部鏡頭數(shù)量)也是如此。
分層模塊化結(jié)構(gòu)意味著在客戶現(xiàn)場啟動設(shè)備所需的時間更少,并簡化了系統(tǒng)維修。這大大提高了可維護性。
S631E 采用新開發(fā)的投影鏡頭設(shè)計,提供更好的像差校正功能,以確保的成像性能。此外,創(chuàng)新的測量光學系統(tǒng)提高了產(chǎn)品的對準和聚焦精度。
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