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MP600S鈮基超導結制備專用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介

關鍵詞：多靶磁控濺射、共濺射、Co-sputter、金屬膜、氧化膜、半導體膜、非金屬膜、約瑟夫森結、超導、量子器件、量子比特、Qubit、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputteringsystem、Josephsonjunction設備型號：MP600S;產(chǎn)地：歐洲

詳細介紹

關鍵詞：多靶磁控濺射、共濺射、Co-sputter、金屬膜、氧化膜、半導體膜、非金屬膜、約瑟夫森結、

超導、量子器件、量子比特、 Qubit、鈮基超導、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、

sputtering system、Josephson junction

設備型號：MP600S; 產(chǎn)地：歐洲；應用：制備鈮基超導結或濺射其他膜材

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)可以沉積各種金屬、半導體、非金屬薄膜，又特別適合用于超導量子結、約瑟夫森結等量子器件的制備，例如：超導Nb、NbN、NbTiN及其他材料等，

目前，包括物理所、清華大學、哈爾濱工業(yè)大學、蘇州醫(yī)工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關設備；在國際上也獲得了美國(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機構的高度認可。

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